Bai Windows

Silizioa erdieroaleetan erabiltzen den monokristal bat da eta ez da xurgatzen 1,2 μm eta 6 μm IR eskualdeetan.Hemen IR eskualdeko aplikazioetarako osagai optiko gisa erabiltzen da.
Silizioa leiho optiko gisa erabiltzen da batez ere 3 eta 5 mikrometroko bandan eta iragazki optikoen ekoizpenerako substratu gisa.Aurpegi leunduak dituzten Silizio-bloke handiak ere erabiltzen dira Neutroien helburu gisa Fisika esperimentuetan.
Silizioa Czochralski tira-tekniken bidez (CZ) hazten da eta 9 mikratan xurgapen-banda eragiten duen oxigeno pixka bat dauka.Hori ekiditeko, Silizioa Float-Zone (FZ) prozesu baten bidez prestatu daiteke.Silizio optikoa, oro har, arinki dopatuta dago (5 eta 40 ohm cm) 10 mikratik gorako transmisio onena lortzeko.Silizioak 30 eta 100 mikra arteko beste banda bat du, erresistentzia handiko material konpentsatu gabe bakarrik eraginkorra dena.Dopina Boroa (p motakoa) eta Fosforoa (n motakoa) izan ohi da.
Aplikazio:
• 1,2 eta 7 μm arteko NIR aplikazioetarako aproposa
• 3 eta 12 μm arteko banda zabaleko estaldura anti-isla
• Pisuari sentikorrak diren aplikazioetarako aproposa
Ezaugarri:
• Siliziozko leiho hauek ez dute 1µm-ko eskualdean edo beherago transmititzen, beraz, bere aplikazio nagusia IR eskualdeetan dago.
• Eroankortasun termiko handia dela eta, potentzia handiko laser ispilu gisa erabiltzeko egokia da
▶Silikozko leihoek metalezko gainazal distiratsua dute;islatzen eta xurgatzen du, baina ez du transmititzen ikusten diren eskualdeetan.
▶Silikozko leihoen gainazaleko islatzeak %53ko transmisio-galera eragiten du.(neurtutako datuak 1 gainazaleko isla % 27an